Author Affiliations
Abstract
1 MOE Key Laboratory of Advanced Micro-Structured Materials, Shanghai 200092, China
2 Institute of Precision Optical Engineering, School of Physics Science and Engineering, Tongji University, Shanghai 200092, China
3 Center for Transformative Science, ShanghaiTech University, Shanghai 201210, China
In this paper, a simple theoretical model combining Monte Carlo simulation with the enthalpy method is provided to simulate the damage resistance of B4C/Si-sub mirror under X-ray free-electron laser irradiation. Two different damage mechanisms are found, dependent on the photon energy. The optimum B4C film thickness is determined by studying the dependence of the damage resistance on the film thickness. Based on the optimized film thickness, the damage thresholds are simulated at photon energy of 0.4–25 keV and a grazing incidence angle of 2 mrad. It is recommended that the energy range around the Si K-edge should be avoided for safety reasons.
B4C film XFEL damage mechanism damage threshold enthalpy method 
Chinese Optics Letters
2023, 21(2): 023401
作者单位
摘要
同济大学 物理科学与工程学院 精密光学工程技术研究所,先进微结构材料教育部重点实验室,上海市数字光学前沿科学研究基地,上海市全光谱高性能光学薄膜器件与 应用专业技术服务平台,上海200092
极紫外正入射光学系统广泛应用于生物结构显微成像、等离子体诊断、太阳物理观测和极紫外光刻等领域中,对其开展深入研究具有重要意义。本文对同济大学精密光学工程研究所在极紫外正入射光学系统方面的最新进展进行介绍,列举了应用于超热电子诊断、微纳成像、极紫外辐照损伤及Z箍缩等离子体诊断等不同场景中的多套正入射光学系统。这些系统分别在相应的应用中实现了优异的性能表现:毫米级视场内微米级的空间分辨;几十微米级视场内亚微米的超高空间分辨;大数值孔径下的超高能量密度极紫外辐照及多能点多通道的时空间诊断。研究所在极紫外正入射光学系统研究中取得的进展为我国等离子体诊断设备的自主可控及高端制造装备的技术储备提供了有力支持。
极紫外 多层膜 Schwarzschild系统 等离子体诊断 成像系统 聚焦系统 extreme ultraviolet multilayer Schwarzschild system plasma diagnostics imaging system focusing system 
光学 精密工程
2022, 30(21): 2678
作者单位
摘要
同济大学 物理科学与工程学院,先进微结构材料教育部重点实验室,精密光学工程技术研究所,上海200092
X射线多层膜是同步辐射与自由电子激光、天文观测、等离子体诊断等大科学装置和实验室分析仪器的重要光学元件,能高效率反射X射线并实现单色和偏振化等调控。本课题组在近二十年的工作中对X射线多层膜的设计、制备和表征方法开展了系统深入的研究,研制了一系列工作在软X射线和硬X射线不同波段的高性能多层膜,反射率达到国际先进水平;基于磁控溅射技术建立了大尺寸掠入射X射线多层膜的镀制平台,最大镀膜尺寸达1.2 m,均匀性优于0.5%(均方根值),制备的硬X射线多层膜反射镜成功应用在国内外大科学装置中;通过将多层膜与反射光栅相结合,创新发展了超高效率韧X射线多层膜光栅元件,相比传统单层膜光栅,该元件能将韧X射线衍射效率最高提升40倍。本文将简要介绍课题组在X射线多层膜元件领域的研究进展。
X射线多层膜 反射率 大尺寸反射元件 多层光栅 X-ray multilayers reflectivity large size reflective optics multilayer gratings 
光学 精密工程
2022, 30(21): 2793
作者单位
摘要
1 同济大学 物理科学与工程学院 精密光学工程技术研究所,先进微结构材料教育部;重点实验室,上海市数字光学前沿科学研究基地,上海市全光谱高性能光学薄膜器件与 应用专业技术服务平台,上海200092
2 同济大学 中德工程学院,上海0009
随着超短超强自由电子激光等光源的应用,极紫外、X射线波段薄膜反射镜的抗辐照性能备受关注。本文介绍了IPOE实验室搭建的纳秒极紫外辐照损伤装置,并对极紫外-X射线自由电子激光常用的B4C薄膜反射镜、Au和Ru金属单层膜反射镜、B4C/Ru双层膜反射镜以及极紫外光刻用Mo/Si多层膜反射镜开展了辐照损伤测试,获得了不同材料和结构的薄膜反射镜抗损伤性能,结合理论模拟揭示了热熔融、热应力和膜层间扩散反应等损伤机制的作用。
极紫外 薄膜反射镜 抗损伤性能 损伤机制 extreme ultraviolet thin film mirrors damage resistance damage mechanism 
光学 精密工程
2022, 30(21): 2698
作者单位
摘要

同济大学精密光学工程技术研究所成立二十年来,以探索前沿科学问题、突破核心关键技术、服务国家重要应用为目标,形成了理论与模拟相结合、科学问题解决与关键技术突破相结合、基础研究与重要应用相结合的特色,形成了研究所的发展理念,打造了高水平研究平台,在X射线器件与系统、强激光薄膜与应用、光学纳米计量与测试、微纳光学与智能感知四个研究方向上取得了突出的研究成果,已成为高层次人才培养和高水平科学研究的重要基地。

光学 精密工程
2022, 30(21): 2555
作者单位
摘要
同济大学物理科学与工程学院先进微结构材料教育部重点实验室, 精密光学工程技术研究所, 上海 200092
极紫外、X射线和中子光学为现代科学的发展提供了高精度的观测手段,但这些手段的实现需要大量高性能薄膜光学元件和系统的支撑。由于短波长和材料光学常数的限制,短波光学元件的结构、性能和制作技术明显区别于长波光学元件。近二十年来,同济大学精密光学工程技术研究所建立了以短波反射镜为基底的精密加工检测平台,发展了超薄薄膜界面生长调控方法和大尺寸薄膜镀制技术,提出了高效率/高分辨率多层膜微纳结构的衍射理论和制备方法,初步阐明了短波辐照损伤的物理机制,形成了短波薄膜和晶体聚焦成像系统的高精度全流程研制技术,并将该技术成功应用于国内和国际短波光子大科学装置中。本文简要介绍本课题组在上述短波元件和系统领域中的研究进展。
极紫外、X射线、中子射线 薄膜 光栅 聚焦成像系统 加工 损伤 
光学学报
2021, 41(1): 0131001
作者单位
摘要
1 同济大学 中德工程学院,上海 201804
2 同济大学 机械与能源工程学院,上海 201804
3 同济大学 先进微结构材料教育部重点实验室,上海 200092
4 同济大学 物理科学与工程学院 精密光学工程技术研究所,上海 200092
针对自行研制的真空紫外-极紫外(VUV–EUV)波段反射率计运行需要,基于LabVIEW软件构建了该反射率计控制和数据采集系统。详细介绍该系统的组成和主要硬件单元模块的控制流程与方法,并给出准直调试程序和反射率数据采集程序的架构、用户界面和数据采集方法。提出的新数据采集算法有效提高了弱信号条件下反射率测量的可靠性。利用该控制与数据采集系统,对Si基板开展了准直校准与反射率测量实验。结果表明,在7.5°~87.5°范围内直通光电流信号为20 pA时仍能获得可靠的反射率,且基于入射光监测方法的反射率测量实验结果与理论计算相符更好。除在布儒斯特角附近信号电流小于本底电流0.7 pA时,反射率重复测量误差优于1.6%。
反射率计 锁相放大器 数据采集 reflectometer LabVIEW LabVIEW lock-in amplifier data acquisition 
光学仪器
2020, 42(3): 71
作者单位
摘要
同济大学 物理科学与工程学院 精密光学工程技术研究所, 上海200092
针对不同厚度的镍膜以及金膜,利用多物理场耦合分析软件COMSOL Multiphysics研究了波长248 nm、矩形脉冲宽度14 ns激光辐照损伤阈值随膜厚变化的物理过程。本研究与他人的理论计算和实验测得的结果基本一致,研究表明:在高强度单脉冲激光均匀辐照下,金属薄膜表面的损伤主要是由于激光能量在其材料内部的沉积而导致的热效应引起的;当金属薄膜的厚度小于其光学吸收长度时(镍膜厚度<8 nm,金膜厚度<12 nm),其熔融损伤阈值随着薄膜厚度的增加而减小;当薄膜厚度大于光学吸收长度而小于其热扩散长度时(镍膜厚度8~730 nm,金膜厚度12~1 050 nm),其熔融损伤阈值随薄膜厚度增加而线性增加;当薄膜厚度大于其热扩散长度时(镍膜厚度>730 nm,金膜厚度>1 050 nm),其熔融损伤阈值随薄膜厚度的增大基本保持不变。
光学吸收长度 热扩散长度 金属薄膜 温度场分布 激光损伤阈值 optical absorption length thermal diffusion length metal films temperature field distribution laser damage threshold 
光学仪器
2017, 39(4): 77
Author Affiliations
Abstract
A time-resolved multispectral X-ray imaging approach with new version of multi-channel Kirkpatrick-Baez (KB) microscope is developed for laser plasma diagnostics at the kilojoule-class Shenguang-II laser facility (SG-II). The microscope uses a total external reflection mirror in the sagittal direction and an array of multilayer mirrors in the tangential direction to obtain multiple individual high-resolution, highthroughput, and quasi-monochromatic X-ray images. The time evolution of the imploded target in multiple X-ray energy bands can be acquired when coupled with an X-ray streak camera. The experimental result of the time-resolved 2.5 and 3.0 keV dual-spectral self-emission imaging of the undoped CH shell target on SG-II is given.
340.7440 X-ray imaging 310.6845 Thin film devices and applications 230.4170 Multilayers 340.7470 X-ray mirrors 
Chinese Optics Letters
2014, 12(8): 083401
作者单位
摘要
1 State Key Laboratory of Advanced Optical Communication Systems & Networks, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, China
2 Digestive Endoscopic Center, Shanghai Sixth Hospital, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200233, China
3 Medical Imaging Institute, Institute of Diagnostic and Interventional Radiology, Shanghai Sixth Hospital, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200233, China
multiband luminescence Er3+-Ho3+-Nd3+/Tm3+ telluride glass 
Frontiers of Optoelectronics
2014, 7(1): 74

关于本站 Cookie 的使用提示

中国光学期刊网使用基于 cookie 的技术来更好地为您提供各项服务,点击此处了解我们的隐私策略。 如您需继续使用本网站,请您授权我们使用本地 cookie 来保存部分信息。
全站搜索
您最值得信赖的光电行业旗舰网络服务平台!